纳米光刻是一种全新的纳米图形复制方法，实质是将传统的模具复型原理应用到微观制造领域。首先计算机将bmp图转化成灰度图，然后再通过二维扫描台，带动镀膜镜片对读取的图像信息进行优化，同时控制激光器及扫描台，完成图像的纳米定位加工。纳米光刻技术是制作纳米结构的关键，具有广阔的应用前景。
利用芯明天p12系列xy二维扫描台，可带动镀膜镜片对读取的图像信息进行优化，同时控制激光器及扫描台，二者配合完成图像的纳米精度加工。
p12.xy100二维压电扫描台
p12.xy100为二维直线扫描台，内置高可靠性压电陶瓷，运动直线性好，台体中心圆形通孔孔径可选25mm 或35mm，满足精密加工、扫描显微等应用。
开/闭环曲线
注：施加至压电陶瓷的电压约为输入控制电压的12倍。
闭环线性度
技术参数
型号：p12.xy100
运动自由度：x、y
行程范围@120v：80μm/轴
行程范围@150v：100μm/轴
闭环传感器：sgs
通孔尺寸：ø25/ø35mm
闭/开环分辨率：7/4nm
闭环线性度：0.1%f.s.
闭环重复定位精度：0.05%f.s.
推/拉力：25/8n
刚度：0.2n/μm
空载谐振频率：x180/y230hz
闭/开环空载阶跃时间：15/0.8ms
承载：0.7kg
静电容量：1.8μf/轴
材质：钢、铝
重量：200g