诚峰等离子体蚀刻机是工业生产半导体行业的设备：
诚峰等离子体蚀刻机采用高密度2.45ghz微波等离子技术，对半导体制造中的晶片进行清洗、去胶和等离子体前处理，微波等离子体清洗、去胶具有很高
的活性，而且对器件无离子损伤。等离子体蚀刻机是微波等离子处理技术的新产品，圆片灰化设备成本低，尺寸适中，性能*，特别适合工业生产和科
研机构使用。
等离子体蚀刻机气体接触到电子区域就会形成等离子体，所产生的离子化气体和释放出的高能电子构成气体等离子体。被离子化的气体原子的动能比
较小，除非它们通过电场加速。当加速时，它们释放出足够的力，与表面驱动力紧密结合在一起，粘附材料或蚀刻表面。等离子体效应转化为材料蚀刻加工过
程，分子级上使用活性气体也会产生化学反应。
等离子体蚀刻机在半导体上使用的优点：
1、脱胶迅速。
2、样本未受到任何损伤。
3、运行简单、安全。
4、设计简洁、美观。
5、产品性价比高。
等离子体蚀刻机是半导体行业的设备，从事微纳加工工艺研究，主要用于半导体及其他薄膜加工工艺过程中，各种光刻胶的干燥去除、基片
清洗、电子元件的开封等。研究方向：等离子体表面改性，有机物质表面等离子清洁，等离子体蚀刻，等离子体灰化，增强或减弱浸润性等。
等离子体蚀刻机外观简洁，系统高度集成化，采用模块化设计，适用于半导体，生物技术，材料等领域。性能优越，可提供的工业控制、故障报
警系统和数据采集软件。能满足科研、生产等严格控制要求。