光学薄膜的特点及测厚检测设备介绍
由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。
光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的；可以是透明介质，也可以是吸收介质；可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射；膜层之间的相互渗透形成扩散界面；由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性；膜层具有复杂的时间效应。
测量方法非接触式/光谱干涉仪
测量对象电子、光学用透明平滑薄膜、多层薄膜
测量原理光谱干涉仪
产品特点实现高测量重复性（± 0.01 μm 或更小，取决于对象和测量条件）
不易受温度变化的影响
可以制造用于研究和检查的离线型和制造过程中使用的在线型。
反射型允许从薄膜的一侧测量
只能测量透明涂膜层（取决于测量条件）
产品规格测量厚度1 至 50 μm（用于薄材料）、10 至 150 μm（用于厚材料）
测量长度50-5000 毫米
测量间距1 毫米 ~
小显示值0.001 微米
电源电压ac100 伏 50/60 赫兹
工作温度限制5～45℃（测量时温度变化在1℃以内）
湿度35-80%（无冷凝）
测量区域φ0.6毫米
测量间隙约 30 毫米
关键词：检测设备