真空电镀是一种在高真空中加热和蒸发金属或化合物的方法
真空电镀是一种在高真空中加热和蒸发金属或化合物的方法，通过将蒸发的原子或分子应用于要电镀的物体，在表面上形成金属或化合物的薄膜。在这里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工业应用包括装饰、包装纸等，将铝沉积在金属光泽上，天津磷化，作为电气应用，用于电阻和电容器。如果地基不释放气体，它可以使用非金属，而不仅仅是金属。
此外，磷化厂家，真空电镀的沉积方法包括pvd（物*相沉积）和cvd法（化学气相沉积）。pvd 使用热和等离子体能量蒸发固体材料，并将其沉积在基板上。 cvd是一种利用热和等离子体等能量的气体，包括薄膜和元素，通过激发和分解在基板表面吸附和形成薄膜。
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铁的含量高时，同三价铬的作用一样，它降低电解液的电导，恶化分散能力，使镀取光泽铬层的工作范围缩小，只是它的作用比三价铬弱一些而已。除去镀铬电解液中的铁杂质，远不如除去三价铬那样容易。用化学法烦杂而且效率不高。当前有用强酸性阳离子交换树脂除铁的，其效果不错。其它金属杂质如铜、锌、镍、锡等也与铁的影响相似。
根离子在镀铬电解液中有什么作用?
答:根离子在镀铬过程中起着与*根离子相类似的作用，除此之外，它还具有某些方面的特点。例如铬层容易钝化，在镀铬过程中因电流中断或进行二次镀铬(不另加其它措施)时，所获得的镀层为乳白而无光泽。但是在有根离子存在下，磷化价格，它具有使铬层表面活化的作用，当电流中断或二次镀铬时，仍能获得光亮的铬层。又如小零件滚镀铬，如果在一般标准镀铬液内进行，就难于获得光亮的铬层，滚镀铬液内通常含有根就是这个道理。
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