高校实验室坩埚炉集控制系统与炉膛体，其中炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，加热元件采用优质硅钼棒。超大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统，可在流动气氛和真空状态下快速加热样品。主要用于金属、非金属及化合物材料进行烧结、融化、分析。控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，以便随时观察。
1200℃高校实验室坩埚炉适用范围：
该款坩埚熔化炉的各项指标均达到要求，主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片，也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。
产品名称
1200℃高校实验室坩埚炉
产品型号
afd-1200-lg
炉膛有效尺寸
200x210mm
温控系统
30段pid微电脑可编程自动控制（温度控制系统采用人工智能调节技术，具有pid调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序）
（用户可选配液晶触摸屏显示）
加热速率
0~20℃/分
控温度
±1℃
高温度
1100℃
额定温度
1200℃(高可选1700℃)
温控方式
智能化30段可编程控制（用户可选配液晶触摸屏显示）
温控保护
具有超温和断偶保护功能
加热元件
合金加热丝
工作电压
ac220v单相50hz（电路电压用户可选择定制）
大功率
4kw
测温元件
k型热电偶测温，正后方测温
净 重
80kg
炉体结构可选
立式、卧式、体式、分开式
开门方式可选
侧开、上开、下开、侧滑
相关配件
坩埚钳、高温手套、热电偶、垫堵
产品认证
ce认证
质保期
年（易损件除外）