真空等离子设备相比常规的设备除了外观区别还有就是清洁效能高：
光电器件/二极管、真空等离子体设备在光电器件产业中的适用是源于集成电路的各种元件和连接线非常精细，因而在加工过程中容易产生灰尘或(机器)污染，极易造成晶片损坏和短路。为了消除这些加工过程中产生的问题，真空等离子体设备的表面处理机设备被引入后来的加工过程中开展预处理。选用真空等离子设备是为了更好地保护我们的产品不破坏晶圆表面性能的情况下，真空等离子设备被用来去除表面的(机器)和杂质。
oled涉及到真空等离子清洗的作用，tsp方面：为了清洁手机触摸屏的基本技艺，加快压层、af涂层在技术上的粘接/涂覆能力，去除气泡/异物，利用各种形式的真空等离子设备。 真空等离子喷涂设备中的高效率能量溶解度，事实上能够 将全部具备可靠融熔相的粉末状材质转变成紧密粘附牢固的喷涂层，而喷涂层的质量决定着喷涂层的质量。真空等离子设备喷涂技术为现代化多功能涂复设备加快了效率。
真空等离子设备处置的优点：
a.真空等离子设备的作用的过程是气-固相干性式反應,不耗费水源、不用加上化学工业药水,对生态。
b.真空等离子设备不分处置对象的基材类型,均可开展处置,如金属材料、光电器件、金属氧化物和绝大多数复合材料都能有效地处置；
c.真空等离子设备接近恒温，尤其适用于复合材料，比电晕放电和燃烧的火焰方式有较长保留时长和较高界面张力。6526747
d.真空等离子设备仅涉及复合材料浅表面（十-一千a），可在维持材质自己本身特征的与此同时，授予其1种或各种新的作用；
e.真空等离子设备装置简单，易操作维修，可连续运行，往往几瓶汽体就可以替代千余kg清洁液,因而清洁费用会大大的少于湿式清洁。
f.真空等离子设备全过程可控工艺：全部参数可由电脑设置和数据统计，开展质量管理。
g.真空等离子设备处置物几何形状无限制：大或小，简单或复杂，零部件或纺织产品，均可处置。