传统直接蒸发 hfo2块材料, 容易产生节瘤缺陷, 吸收很大, 限制了薄膜的激光损伤阈值, 因此, 为了获取高质量的 hfo2薄膜, 某机构采用 kri考夫曼离子源kdc 160 辅助镀制 hfo2薄膜.
客户的样品基底材料为 k9 玻璃, 靶材为 hfo2块材料, 运行的离子源偏压为 90v.
伯东美国 kri考夫曼离子源kdc 160 技术参数:
离子源型号
离子源 kdc 160
discharge
dc 热离子
离子束流
>650 ma
离子动能
100-1200 v
栅极直径
16 cm φ
离子束
聚焦, 平行, 散射
流量
2-30 sccm
通气
ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
典型压力
< 0.5m torr
长度
25.2 cm
直径
23.2 cm
中和器
灯丝
*可选:可调角度的支架
应用结果：
通过使用伯东 kri考夫曼离子源kdc 160 在偏压为 90v 时, 制造得到的hfo2薄膜晶粒减小, 膜结构更均匀, 缓解了激光能量的局部聚焦, 因此具有较高的损伤阈值.
伯东是德国pfeiffer真空泵,检漏仪,质谱仪,真空计, 美国kri考夫曼离子源, 美国hva 真空阀门, 美国intest高低温冲击测试机, 美国 ambrell感应加热设备和日本 ns离子蚀刻机等进口品牌的代理商.