注：本文转载自“含氟气体与环境问题”公众号。
hfc-23的消费用途主要有四种：（1）生产哈龙1301的原料之一；（2）复叠低温制冷系统中的制冷剂；（3）气体灭火剂；（4）半导体制造业的等离子体化学蚀刻剂。
hfc-23主要消费用途
哈龙1301生产原料之一
哈龙1301是《蒙特利尔议定书》管控的消耗臭氧层物质之一，中国已于2008年完成其受控用途生产和消费的淘汰，目前仍有少量作为原料用途生产。hcfc-22和无水氟化氢（ahf），生产得到中间产物hfc-23，再经与反应，最终生成哈龙1301。
复叠低温制冷系统中的制冷剂
作为制冷剂，hfc-23一般与其他hfcs按照一定比例混合使用，具有较好的制冷效果，但这种低温制冷剂在范围内的应用并不广泛。比如要求低温环境保持活性的疫苗，hfc-23是一个不错的制冷剂。
气体灭火剂
hfc-23是一种采用物理和化学方式共同参与灭火的洁净气体灭火剂；hfc-23具有无色、微味、低毒、不导电、不污染灭火对象等优点。hfc-23灭火系统主要缺点在于系统工作压力大，管网造价较高；灭火剂的灌装比较困难，hfc-23在灭火过程中会产生有毒气体氢氟酸（hf），且hfc-23被人体吸入后会引起头痛、和呕吐，有麻醉作用。
蚀刻剂
等离子体刻蚀（plasma etch）也称干刻蚀法，是集成电路制造中的关键工艺之一。等离子体刻蚀是通过高频电场将反应气体部分电离成等离子体，然后利用反应腔体中的离子和活性基团来进行化学的和物理（离子轰击）的作用去除被刻蚀材料的过程。hfc-23可作为等离子体刻蚀工艺中的反应气体。
中国已知的hfc-23消费量较低（年1000吨以下），hcfc-22生产企业一般将副产的hfc-23回收予以销毁或提纯作为产品。