安捷伦icp-ms具有*自动化的易于使用、灵活性、可靠性以及优良的设计，它提供了高水平的分析性能。可配备第二代八级杆反应池(ors)技术，提供多种选择的进样附件、应用与维修服务支持，它正在带领实验室进入icp-ms时代。
安捷伦icp-ms的分析特性：
可快速同时检测周期表上几乎所有元素
低检出限(低至ppq级)
分析效益/成本比
线性动态范围宽—可直接检测从ppq到数百ppm浓度
谱线简单、干扰小，准确度和精密度好
需要样品量很低(ul至ml)，分析速度很快(1——3分钟/样品)
检测模式灵活多样
半导体工业常用材料中超痕量污染物分析：
固体：si;gaaa单晶切片;石英、碳化硅等炉材料;高纯金属电极等
安捷伦icp-ms可直接分析有机样品：
安捷伦icp-ms的能、高功率屏蔽矩冷等离子体技术已被用于测定一系列有机样品的ppt级痕量污染元素。
对其中一些样品，其他方法无法获到满意的结果，高功率屏蔽矩冷等离子体技术是种分析方法。
强碱性清洗剂——四甲基氢氧化氨(tmah)等
高基体样品——光刻胶、液晶、bpsg、psg等挥发性*的清洗剂
安捷伦icp-ms样品溶液的配制
样品溶液的配制方法由样品本身性质决定，主要有以下四种配制方法：
1.直接法：主要适用于液体类样品及其他无需处理样品。
2.直接水溶液：适用于溶于水的样品。
3.直接有机溶液：适用于溶于有机溶剂的样品。该方法可能需要使用选择性气体。
4.间接溶液法：适用于不溶于水或有机溶剂的样品。*总金属提取得到间接溶液，样品采用密闭容器消化等类似方式。