紧凑、高性能、理想的研发台式光刻设备介绍
该产品是一种节省空间且易于操作的掩模对准器，具有高性能和低成本，使其成为大学和企业实验室的理想选择。 该产品是同类产品中采用两用显微镜和集成透镜（照明系统）的产品，可实现高精度的对准和燃烧。
面罩尺寸 高达 □5”
晶圆尺寸 最大φ4英寸
曝光照明 250w超高压汞灯
光学方法 积分器透镜方法
不均匀照度±5%以下
照度 20mw/cm2 （405nm）
有效曝光范围 φ100mm
曝光：带数字计时器的旋转电磁阀驱动器
曝光模式 软接触，硬接触
分辨率 2μm（硬触点）
对齐范围 双显微镜
10 x 2x 物镜 （n.a. 0.15 宽深 30mm）
物镜间距 15~75mm
目镜nwf10×（18 视野）
整体放大倍率：100x
晶圆台 xy载物台行程±5mm
θ 旋转行程 ±5°
z轴行程 0~4mm
对齐方式 通过晶圆平台移动手动对准
对准精度 ±3微米
安装尺寸 735（宽）×490（深）×605（高）毫米
安装重量 约90公斤
效用 电源 ac100v 15a 50/60hz
真空（压力）21.3kpa（大气压以上-80kpa）
n² 气体或干燥空气（压力） 0.2 mpa 或更高