简介：发射率测量仪tss-5x-3是一款用于测量样品在室温下发射率的仪器。它以数字方式显示发射率值，操作简单方便。tss-5x-3广泛应用于空间、半导体和核电等领域，帮助量化材料表面处理的微小差别。
主要特点：
表面态概率转换：通过了解发射率，可以提高加热设备的辐射效率，设计强调散热和隔热的材料，节省能源。
发射率测量原理：tss-5x-3使用红外检测的反射能量测量方法，测量波长范围为2～22μm。
宽广测量范围：tss-5x-3测量范围为发射率0.00-1.00，准确率评估在满量程的±1%。
具备样品温度控制： tss-5x-3在室温下进行测量，无需加热样品，样品温度范围为10-40℃。
高清晰显示：测量值通过led数字显示以小数点后第二位的精度呈现。
多种输出方式：提供0-0.1v、0-1v和满量程输出。
技术规格：
模型：tss-5x-3
测量方法：使用红外检测的反射能量测量方法
测量波长范围：2～22μm
测量范围：发射率0.00-1.00
准确率评估：满量程的±1%
测量面积：φ15mm
测量距离：12mm（检测头柱固定）
样品温度：10-40℃（室温）
测量值显示：led数字显示（显示至小数点后第二位）
输出：0-0.1v、0-1v、满量程
工作温度/湿度范围：10~45℃/35~85℃（无凝结）
电源/电力：ac100-240v，50/60hz，30w（不含电源线）
尺寸/质量：检测头：φ51 x 137lmm，0.6kg；测量单元：156h x 306w x 230dmm，5.0kg
配件：发射率标准件存放盒：84h x 238w x 185dmm，1.1kg；发射率标准件：0.06（镜面）、0.97（黑体），各存放1个
结语：发射率测量仪tss-5x-3是一款便捷的工具，可用于测量样品在室温下的发射率。它通过量化材料表面处理的微小差别，为空间、半导体和核电等领域的研发和生产提供支持。tss-5x-3具备简单易操作的特点，以数字方式显示发射率值，并提供多种输出选项。仪器准确度高、测量范围宽广，可满足不同应用需求。
关键词：加热设备