首chuang的解决方案将swisslitho nanofrazo系统的高分辨率和3d打印功能与evg的smartnil®技术的高产量和成本效益相结合
面向 mems、纳米技术和半导体市场的晶圆键合和光刻设备的领仙供应商 evg与新型纳米光刻技术制造商 swisslitho ag 宣布推出联合解决方案，可生产最小到单纳米级的 3d 结构。这一方案在欧盟第七框架计划资助的“超越cmos器件的单纳米制造（snm）”项目中进行了shouci演示，涉及swisslitho的新型nanofrazor热扫描探针光刻系统和evg的hercules® nil 系统，前者可制作具有纳米压印光刻（nil）的3d结构的压印母板，后者采用 smartnil® 技术来高效地量产这些结构。
目标应用
evg和swisslitho最初的目标是开发衍射光学元件和其他相关光学组件，以支持光子学、数据通信、增强/虚拟现实（ar / vr）和其他应用，并有可能扩展到生物技术、纳米流体和其他纳米技术应用。
作为联合解决方案的一部分，swisslitho的nanofrazo系统将用于创建压印母版。与传统方法（包括电子束和灰度光刻）相比，运用这一新技术打印3d结构可实现wuyulunbi的精度。创建生产过程中的工作模板则由evg的hercules nil系统来完成，它采用evg duyou的大面积纳米压印smartnil技术，jiju成本效益。
evg企业技术总监thomas glinsner博士指出：“swisslitho的nanofrazor方案与evg的smartnil技术高度互补。我们可以携手为光子学和其他涉及3d 结构图案的应用提供完整的nil解决方案，为两家公司扩大客户群和市场范围提供重要机会。nilphotonics®技术中心将成为对此感兴趣的客户的第一选择，我们将会提供可行性研究、方案演示和中试服务。“
技术细考
nanofrazor背后的热扫描探针光刻技术，由苏黎世的ibm研究院发明，后来被swisslitho ag收购。这种无掩模、直接写入光刻方法是在图案化之前将dute的热敏光刻胶旋涂到样品表面。然后使用加热的超尖探针局部分解和蒸发光刻胶，同时检查写入的纳米结构；接下来使用剥离、蚀刻、电镀、模塑或其他方法将产生的任意光刻胶图案转移到任何其他材料中。
“我们开发了nanofrazor系列，为昂贵的电子束光刻系统提供高性能、经济实惠的替代方案，”swisslitho的shouxi执行官felix holzner博士说。“该项技术允许在一个步骤中制造具有许多'层级'的母版。尤其是与传统的电子束或灰度光刻方法相比，具有单纳米精度的3d结构能够更容易地制造出来，且保真度更高。我们期待着在奥地利的nilphotonic技术中心与客户一道工作，将我们的技术与evg的smartnil工艺进行成功的结合。
hercules nil将evg在nil，光刻胶加工和大批量制造解决方案领域积累的专业知识整合到一个集成系统中，为200毫米晶圆提供高达40片每小时的产量。该系统的可配置模块化平台可适应各种压印模块和结构尺寸，使客户在满足其制造需求方面具有更大的灵活性。此外，它能够制作多用途软印章，有助于延长压印母板的使用寿命。
关于 swisslitho
swisslitho是一家屡获殊荣的初创公司，成立于2012年，其愿景是chedi改变纳米制造。该公司开发、制造和销售一种新型无掩模纳米光刻技术，具有高分辨率和dute的功能，如 3d 图案化和原位计量，有可能取代和扩展电子束光刻等传统图案化技术。客户使用swisslitho dute的nanofrazor工具来制造新型的电气，光学，磁性和生物纳米器件，这些器件以前是无法制造的。
关于evg
ev group (evg) 是为半导体、微机电系统 (mems)、化合物半导体、功率器件和纳米器件制造提供大批量生产设备和工艺解决方案的领仙供应商。主要产品包括晶圆键合、薄晶圆加工和光刻/光刻纳米压印 (nil) 设备，光刻胶涂布机，以及清洁和检测/计量系统。evg 成立于 1980 年，为全球各地的客户和合作伙伴提供服务和支持。