纳米压印是一种全新的纳米图形复制方法，实质是将传统的模具复型原理应用到微观制造领域。它是通过将刻有目标图形的母版压印到相应的衬底（通常是一层很薄的聚合材料）上实现图形转移，以完成微纳米加工的光刻步骤。纳米压印技术是制作纳米结构的关键，具有广阔的应用前景。
利用芯明天p18.xy300二维扫描台，可带动镀膜镜片在0~300μm的平面内对读取的图像信息进行优化，同时控制激光器及扫描台，二者配合完成图像的纳米精度加工。
下图为通过芯明天运动控制软件操作二维压电扫描台，激光光刻的100μm×100μm图标。
p18.xy300压电扫描台
p18.xy300为二维直线扫描台。台体采用机构放大设计原理，内置高可靠性压电陶瓷，可以实现375μm的高速扫描，运动直线性好，配套芯明天大功率控制器响应时间可达5ms，通光孔径为ø35mm，是精密加工、半导体制造、扫描显微等应用的不错选择。
特点
·位移可达375μm/轴
·承载达3kg
·通孔直径：ø35mm
·闭环重复定位精度高
阶跃时间
单点定位应用，p18.xy300s带载100g负载阶跃时间60ms。
技术参数
型号
尾缀s-闭环尾缀k-开环
p18.xy300s
p18.xy300k
单位
运动自由度
x、y
标称行程范围（0~120v）
300或±150/轴
μm±20%
行程范围（0~150v）
375或±187.5/轴
μm±20%
传感器类型
sgs/-
通孔尺寸
ø35
mm
闭/开环分辨率
10/5
nm
闭环线性度
0.2/-
%f.s
闭环重复定位精度
0.15/-
%f.s
俯仰/偏航/滚动
<15
μrad
推/拉力
150/150
n
运动方向刚度
x0.5/y0.5
n/μm±20%
空载谐振频率
x250/y500
hz±20%
闭/开环空载阶跃时间
50/10
ms±20%
闭环空载
工作频率
10%行程
40
hz±20%
行程
10
承载能力
3
kg
静电容量
21/轴
μf±20%
材质
铝
重量
380
g±5%