vo2薄膜作为一种热门的功能材料,具有优秀的相变特性和电阻开关特性,在微测辐射热计、光存储器等光学器件领域具有广泛的应用前景.
天津某材料制造商采用伯东kri射频离子源rficp380辅助磁控溅射沉积制备vo2薄膜,以获得均匀性好,沾污少,附着力强,较高的透过率的vo2薄膜.
kri射频离子源rficp380技术参数:
射频离子源型号
rficp380
discharge阳极
射频rficp
离子束流
>1500 ma
离子动能
100-1200 v
栅极直径
30 cm φ
离子束
聚焦,平行,散射
流量
15-50 sccm
通气
ar, kr, xe, o2, n2, h2,其他
典型压力
< 0.5m torr
长度
39 cm
直径
59 cm
中和器
lfn 2000
客户采用kri考夫曼射频离子源rfcip380产生离子束不断轰击源极靶材和工件,工件在离子束轰击下迅速被加热至高温,源极靶材在轰击作用下溅射出的合金元素不断奔向工件表面,经沉积扩散过程形成一定厚度的涂层.
kri射频离子源rficp380运行结果:
1. 获得的薄膜在可见光波段具有较高的透过率
2. 薄膜较为平整且对可见光的透过率较高为38%,退火处理提高了薄膜的结晶性和透过率
3. 制备出单斜结构的vo2薄膜,且具有晶面择优取向
4. 制备的薄膜均匀性好,沾污少,附着力强,沉积速率大,效率高,产量高
伯东是德国pfeiffer真空泵,检漏仪,质谱仪,真空计,美国kri考夫曼离子源,美国hva真空阀门,美国intest高低温冲击测试机,美国ambrell感应加热设备和日本ns离子蚀刻机等进口品牌的代理商.
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上海伯东:罗女士